Наноалмазы

Алмазосодержащая детонационная шихта (ТУ РБ 100056180.003-2003)

Наноалмазы детонационного синтеза (ТУ РБ –28619110.001-95)

Марка
Тип материала
Описание материала
Характеристики
Применение
АШ-A
Алмазсодержащая шихта, тип A
Метод получения:
Детонационный синтез
Внешний вид:
Черный порошок или паста
Размер и форма:
Полидисперсный порошок
(1-100 мкм) с неправильными частицами округлой формы
Размер единичного кристалла – 10 нм
Окисляемые формы углерода: 53,4%
Удельная поверхность: 404 м2
Объем пор: 1,245 cм3
Удельная адсорбция потенциалопределяющих ионов:
0,112·10-3 мг-экв/г
Электрокинетический потенциал водной суспензии:
+ 56,53 мВ(pH=3,3)
-36,03 мВ(pH=10)
Функциональные поверхностные группы:CO2H, CHx, C6Hx
Присадки к смазочным маслам, полировальные композиции, краски
АШ-Б
Алмазсодержащая шихта, тип Б
Полимерные композиции и покрытия, адгезивы
АШ-В
Алмазсодержащая шихта, тип В
Производство наноалмаза
УДА-ЧОШ-СП
Наноалмаз селективного окисления, сухой порошок
Метод получения:
Селективное окисление АШ-В
Внешний вид:
Черный порошок или паста

Размер и форма:
Полидисперсный порошок (1-100 мкм) с неправильными частицами округлой формы
Размер единичного кристалла – 10 нм
Окисляемые формы углерода: 38,4%
Степень окислительного разложения: 0,28
Удельная поверхность: 399 м2
Объем пор: 0,993 cм3
Удельная адсорбция потенциалопределяющих ионов: 0,485·10-3 мг-экв/г
Электрокинетический потенциал водной суспензии:
-83,88 мВ(pH=10)
Функциональные поверхностные группы:CO2H, CO2R, CHx, C6Hx
Полимерные композиции, сорбенты
УДА-ЧОШ-ВК
Наноалмаз селективного окисления, водный концентрат
Гальванические технологии
(Cr; Ni, Zn, Cu), полимерные композиции
АШ-M1
Модифицированная алмазсодержащая шихта, тип M1
Метод получения:
Высокотемпературная обработка в среде различных газов
Внешний вид: Черный порошок
Размер и форма:
Полидисперсный порошок (1-100 мкм) с неправильными частицами округлой формы
Размер единичного кристалла – 8-10 нм
Окисляемые формы углерода: 46,2%
Удельная поверхность: 400 м2
Функциональные поверхностные группы:
CO2H, CHx, C-N, C=N, N-H, C6Hx
Электрокинетический потенциал частиц близок к 0
Полимерные композиции
АШ-M2
Модифицированная алмазсодержащая шихта, тип M2
Окисляемые формы углерода: 78,6%
Удельная поверхность: 450 м2
Функциональные поверхностные группы:
CO2H, CHx, C-N, N-H, C6Hx

Электрокинетический потенциал частиц близок к 0

АШ-M3
Модифицированная алмазсодержащая шихта, тип M3
Окисляемые формы углерода: 69,7%
Удельная поверхность: 408 м2
Функциональные поверхностные группы:
CO2H, CHx, C6Hx

Электрокинетический потенциал частиц близок к 0

УДА-СП
наноалмаз, сухой порошок
Метод получения:
Химическая очистка АШ-В
Внешний вид:
Серый порошок или водная суспензия
Размер и форма:
УДА-СП, УДА-ГО-СП: полидисперсные порошки: 30; 40; 90; 100; 700; 900 нм со сферическими частицами.
УДА-ВК, УДА-ГО-ВК: сферические частицы с размером единичного кристалла 4-6 нм
Окисляемые формы углерода: 1,2%
Степень окислительного разложения: 0,98
Удельная поверхность: 295 м2
Объем пор: 0,84 cм3
Удельная адсорбция потенциалопределяющих ионов: 0,495·10-3 мг-экв/г
Электрокинетический потенциал водной суспензии:
-59,44 мВ (pH=10)
Функциональные поверхностные группы:
CO2H, CO2R, CHx, C-N, C=N, C-O-O, OH, CO
Микро-абразивные и полировальные композиции, полимерные композиции, гальванические технологии
УДА-ВК наноалмаз, водный концентрат
Гальванические технологии
(Cr, Ni, Cu, Zn, др.), краски
УДА-ГО-СП
наноалмаз глубокой очистки, сухой порошок
Спеченные и поликристаллические композиционные материалы, микро-абразивные и полировальные композиции, краски
УДА-ГО-ВК
наноалмаз глубокой очистки, водный концентрат
Гальванические технологии (Au, Ag), суперполировальные композиции
УДА-M1
Модифицированный наноалмаз, тип M1
Метод получения: тип M1 – высокотемпературная обработка наноалмаза в газовой среде; тип M2 – комплексное жидкофазное и газофазное модифицирование
Внешний вид:
Серый порошок или водная суспензия
Размер и форма:
сферические частицы с размером единичного кристалла 4-6 нм
Окисляемые формы углерода: 0,8%
Удельная поверхность: 255 м2
Объем пор: 0,81 cм3
Удельная адсорбция потенциалопределяющих ионов: 0,510·10-3 мг-экв/г
Электрокинетический потенциал водной суспензии:
+66,06 мВ (pH=3)
Функциональные поверхностные группы: CO2H, CO2R, CHx, N-H
Гальванические технологии, суперполировальные композиции
УДА-M2
Модифицированный наноалмаз, тип M2
УДА-Ni
Метод получения: жидкофазное модифицирование УДА-ГО-ВК
Внешний вид:
Водная суспензия серого цвета
Степень заполнения поверхности ионами Ni – 80,6%
Водородный показатель раствора - 5
Гальванические технологии
УДА-Cu
Степень заполнения поверхности ионами Cu – 73,2%
Водородный показатель раствора - 4
УДА-Cr
Степень заполнения поверхности ионами Cr – 23,6%
Водородный показатель раствора - 3
УДА-Ag
Степень заполнения поверхности ионами Ag – 31,5%
Водородный показатель раствора - 7-8
УДА-Au
Степень заполнения поверхности ионами Au – 27,4%
Водородный показатель раствора - 5

Более подробная информация – по запросу.

Наноалмазы в гальванопокрытиях
Наноалмазы в полировальных композициях
Наноалмазы в лакокрасочных покрытиях