Марка
Тип материала |
Описание материала
|
Характеристики
|
Применение
|
АШ-A
Алмазсодержащая шихта, тип A |
Метод получения:
Детонационный синтез Внешний вид: Черный порошок или паста Размер и форма: Полидисперсный порошок (1-100 мкм) с неправильными частицами округлой формы
Размер единичного кристалла – 10 нм |
Окисляемые формы углерода: 53,4%
Удельная поверхность: 404 м2/г Объем пор: 1,245 cм3/г Удельная адсорбция потенциалопределяющих ионов: 0,112·10-3 мг-экв/г
Электрокинетический потенциал водной суспензии: + 56,53 мВ(pH=3,3) -36,03 мВ(pH=10) Функциональные поверхностные группы:CO2H, CHx, C6Hx |
Присадки к смазочным маслам, полировальные композиции, краски
|
АШ-Б
Алмазсодержащая шихта, тип Б
|
Полимерные композиции и покрытия, адгезивы
|
||
АШ-В
Алмазсодержащая шихта, тип В
|
Производство наноалмаза
|
||
УДА-ЧОШ-СП
Наноалмаз селективного окисления, сухой порошок |
Метод получения:
Селективное окисление АШ-В Внешний вид: Черный порошок или паста Размер и форма: Полидисперсный порошок (1-100 мкм) с неправильными частицами округлой формы Размер единичного кристалла – 10 нм |
Окисляемые формы углерода: 38,4%
Степень окислительного разложения: 0,28 Удельная поверхность: 399 м2/г Объем пор: 0,993 cм3/г Удельная адсорбция потенциалопределяющих ионов: 0,485·10-3 мг-экв/г Электрокинетический потенциал водной суспензии: -83,88 мВ(pH=10) Функциональные поверхностные группы:CO2H, CO2R, CHx, C6Hx |
Полимерные композиции, сорбенты
|
УДА-ЧОШ-ВК
Наноалмаз селективного окисления, водный концентрат |
Гальванические технологии
(Cr; Ni, Zn, Cu), полимерные композиции
|
||
АШ-M1
Модифицированная алмазсодержащая шихта, тип M1
|
Метод получения:
Высокотемпературная обработка в среде различных газов Внешний вид: Черный порошок Размер и форма: Полидисперсный порошок (1-100 мкм) с неправильными частицами округлой формы Размер единичного кристалла – 8-10 нм |
Окисляемые формы углерода: 46,2%
Удельная поверхность: 400 м2/г Функциональные поверхностные группы: CO2H, CHx, C-N, C=N, N-H, C6Hx Электрокинетический потенциал частиц близок к 0
|
Полимерные композиции
|
АШ-M2
Модифицированная алмазсодержащая шихта, тип M2
|
Окисляемые формы углерода: 78,6%
Удельная поверхность: 450 м2/г Функциональные поверхностные группы: CO2H, CHx, C-N, N-H, C6Hx Электрокинетический потенциал частиц близок к 0 |
||
АШ-M3
Модифицированная алмазсодержащая шихта, тип M3
|
Окисляемые формы углерода: 69,7%
Удельная поверхность: 408 м2/г Функциональные поверхностные группы: CO2H, CHx, C6Hx Электрокинетический потенциал частиц близок к 0 |
||
УДА-СП
наноалмаз, сухой порошок |
Метод получения:
Химическая очистка АШ-В Внешний вид: Серый порошок или водная суспензия Размер и форма: УДА-СП, УДА-ГО-СП: полидисперсные порошки: 30; 40; 90; 100; 700; 900 нм со сферическими частицами. УДА-ВК, УДА-ГО-ВК: сферические частицы с размером единичного кристалла 4-6 нм |
Окисляемые формы углерода: 1,2%
Степень окислительного разложения: 0,98 Удельная поверхность: 295 м2/г Объем пор: 0,84 cм3/г Удельная адсорбция потенциалопределяющих ионов: 0,495·10-3 мг-экв/г Электрокинетический потенциал водной суспензии: -59,44 мВ (pH=10) Функциональные поверхностные группы: CO2H, CO2R, CHx, C-N, C=N, C-O-O, OH, CO |
Микро-абразивные и полировальные композиции, полимерные композиции, гальванические технологии
|
УДА-ВК наноалмаз, водный концентрат
|
Гальванические технологии
(Cr, Ni, Cu, Zn, др.), краски |
||
УДА-ГО-СП
наноалмаз глубокой очистки, сухой порошок |
Спеченные и поликристаллические композиционные материалы, микро-абразивные и полировальные композиции, краски
|
||
УДА-ГО-ВК
наноалмаз глубокой очистки, водный концентрат |
Гальванические технологии (Au, Ag), суперполировальные композиции
|
||
УДА-M1
Модифицированный наноалмаз, тип M1 |
Метод получения: тип M1 – высокотемпературная обработка наноалмаза в газовой среде; тип M2 – комплексное жидкофазное и газофазное модифицирование
Внешний вид: Серый порошок или водная суспензия Размер и форма: сферические частицы с размером единичного кристалла 4-6 нм |
Окисляемые формы углерода: 0,8%
Удельная поверхность: 255 м2/г Объем пор: 0,81 cм3/г Удельная адсорбция потенциалопределяющих ионов: 0,510·10-3 мг-экв/г Электрокинетический потенциал водной суспензии: +66,06 мВ (pH=3) Функциональные поверхностные группы: CO2H, CO2R, CHx, N-H |
Гальванические технологии, суперполировальные композиции
|
УДА-M2
Модифицированный наноалмаз, тип M2 |
|||
УДА-Ni
|
Метод получения: жидкофазное модифицирование УДА-ГО-ВК
Внешний вид: Водная суспензия серого цвета |
Степень заполнения поверхности ионами Ni – 80,6%
Водородный показатель раствора - 5 |
Гальванические технологии
|
УДА-Cu
|
Степень заполнения поверхности ионами Cu – 73,2%
Водородный показатель раствора - 4 |
||
УДА-Cr
|
Степень заполнения поверхности ионами Cr – 23,6%
Водородный показатель раствора - 3 |
||
УДА-Ag
|
Степень заполнения поверхности ионами Ag – 31,5%
Водородный показатель раствора - 7-8 |
||
УДА-Au
|
Степень заполнения поверхности ионами Au – 27,4%
Водородный показатель раствора - 5 |
Наноалмазы в гальванопокрытиях
Наноалмазы в полировальных композициях
Наноалмазы в лакокрасочных покрытиях